Химическое осаждение из паровой фазы
1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждается на нагретую подложку. Газообразные реагенты разлагаются или соединяются вблизи подложки или на самой подложке, в результате чего на ней осаждается требуемый материал в форме химического элемента, сплава или соединения. Энергия для указанных химических реакций может быть обеспечена теплом подложки, плазмой тлеющего разряда или лучом лазера1
1. Химическое осаждение паров - это процесс нанесения чисто внешнего покрытия или покрытия с модификацией покрываемой поверхности, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика наносятся на нагретое изделие. Газообразные реактивы разлагаются или соединяются на поверхности изделия, в результате чего на ней образуются желаемые элементы, сплавы или компаунды. Энергия для такого разложения или химической реакции может быть обеспечена за счет нагрева изделия плазменным разрядом или лучом лазера2
Приказ от 27.03.2012 № 575 «О контроле за экспортом товаров и технологий двойного назначения, которые могут быть использованы при создании вооружений и военной техники и в отношении которых осуществляется экспортный контроль». ↩
Приказ от 24.12.2001 № 1226 «О внесении изменений в отдельные нормативные и иные правовые акты ГТК России». ↩
Понятие «химическое осаждение из паровой фазы» среднего рода.
| Падеж | Единственное число | Множественное число |
|---|---|---|
| Р | химического осаждения из парового фазы | химического осаждения из парового фазы |
| Д | химическому осаждению из паровому фазы | химическому осаждению из паровому фазы |
| В | химическое осаждение из паровое фазы | химическое осаждение из паровое фазы |
| Т | химическим осаждением из паровым фазы | химическим осаждением из паровым фазы |
| П | химическом осаждении из паровом фазы | химическом осаждении из паровом фазы |