Chemische Gasphasenabscheidung
1. Chemische Abscheidung aus der Dampfphase (CVD) – ein Prozess zur Aufbringung einer Außenbeschichtung oder zur Modifizierung der Oberfläche eines Substrats, bei dem Metall, Legierung, Verbundmaterial, Dielektrikum oder Keramik auf eine erwärmte Substratoberfläche abgeschieden wird. Gasförmige Reagenzien zerfallen oder reagieren in der Nähe des Substrats oder direkt auf dem Substrat, wodurch das gewünschte Material in Form eines chemischen Elements, einer Legierung oder eines Verbindungsprodukts auf diesem abscheidet. Die Energie für die genannten chemischen Reaktionen kann durch die Wärme des Substrats, durch Plasma bei einem Glimmfunkenentladung oder durch einen Laserstrahl bereitgestellt werden1
1. Chemische Dampfabscheidung ist ein Prozess zum Auftragen eines reinen Oberflächenbeschichtungs oder einer Beschichtung mit Modifikation der beschichteten Oberfläche, bei dem Metall, Legierung, Verbundmaterial, Dielektrikum oder Keramik auf ein erwärmtes Werkstück aufgetragen werden. Gasförmige Reaktanten zerfallen oder reagieren an der Oberfläche des Werkstücks, wodurch gewünschte Elemente, Legierungen oder Verbindungen auf dieser entstehen. Die Energie für solch ein Zerfallen oder chemische Reaktion kann durch Erwärmen des Werkstücks mittels Plasmaentladung oder Laserstrahl bereitgestellt werden2
Erlass vom 27.03.2012 № 575 „Zur Kontrolle des Exports von Waren und Technologien mit Doppelzweck, die bei der Herstellung von Waffen und militärischer Ausrüstung verwendet werden können, und zur Durchführung des Exportkontrolls in Bezug auf diese.“. ↩
Erlass vom 24.12.2001 № 1226 „Zur Änderung bestimmter normativer und anderer rechtlicher Akte des russischen Handelsrates.“. ↩
Понятие «химическое осаждение из паровой фазы» среднего рода.
| Падеж | Единственное число | Множественное число |
|---|---|---|
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